檢測標準參考

ASTM A991/A991M-2010(2015)測量熱處理鋼產(chǎn)品用爐溫度均勻性的試驗方法

ASTM C917-2005(2011)評定單一來源的水泥強度均勻性的試驗方法

ASTM C1164-1992(2009)根據(jù)單個源評估石灰石或石灰均勻性的規(guī)程

ASTM D2743-1968(2010)用光譜和氣相色譜分析法對路標漆固體調(diào)漆料均勻性的測定規(guī)程

ASTM D3928-2000a(2010)評定光彩或光澤均勻性的試驗方法

ASTM E2355-2010測量玻璃窗表面上吸收性電變色涂層均勻性的試驗方法

ASTM E2749-2015試樣爐內(nèi)暴露均勻性的測量規(guī)程

ASTM F2964-2012電致發(fā)光燈或其它漫射照明裝置亮度均勻性測定的標準試驗方法

BS 3712-1-1991建筑和結(jié)構(gòu)密封劑.第1部分:均勻性、相對密度和滲透性試驗方法

BS ISO 10110-4-1997光學及光學儀器.光學元件和系統(tǒng)圖形的制備.第4部分:不完備材料的不均勻性和擦痕

CEI EN 61262-3-1998醫(yī)用電氣設(shè)備.電光X射線圖像增強器的特性.第3部分:亮度分布和亮度不均勻性的測定.第一版

EN PREN 13036-5-2006道路和機場表面試驗方法,第5部分：縱向不均勻性指數(shù)的測定

GL003-2018能力驗證樣品均勻性和穩(wěn)定性評價指南

GL005-2018實驗室內(nèi)部研制質(zhì)量控制樣品的指南

CY/T 104.4-2014印刷技術(shù) 紙和紙板印刷適性測試方法 第4部分：印刷均勻性

DB44/T 1716-2015臺山玉

DIN 17052-1-2000熱處理爐.第1部分:溫度均勻性的要求

DIN 50443-1-1988半導體工藝使用材料的檢驗.第1部分:用X射線外形測量法檢測半導體單晶硅中晶體缺陷和不均勻性

DIN 50443-2-1994半導體工藝材料檢驗;用X射線粘撲法證明半導體單晶硅中晶體缺陷和不均勻性.Ⅲ-V-連接半導體

DIN 53829-1-1990紡織品檢驗;紗線均勻性測定;移動試件上力與長度變化的檢驗原則